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반도체 소재 고부가가치 솔루션을 제공하는 글로벌 첨단소재 리더, KPX Electrochem

Chemical

Chemical

반도체 제조는 수백 단계의 정교한 공정을 거쳐 미세 구조를 형성하는 첨단 기술 산업입니다.
이 과정에서 사용되는 Process Chemical 은 회로 패턴 형성, 금속 배선, 표면 세정, 오염 제어 등 핵심 품질을 결정하는 필수 소재입니다.

KPX일렉트로켐 Chemical의 특장점

  • 고순도/고신뢰성/고성능

    반도체 제조 공정의 핵심 요구사항을 충족하며,
    미세화·고 집적화되는 최신 공정에서 고객사의 수율 향상과 공정 안정성 확보에 기여합니다.

  • 고객 요구 대응

    박리, 식각, 세정 등의 성능 요구치에 부합하는 제품을 개발하여
    고집적화, 미세화 하는 반도체 디바이스 성능 및 품질요구에 대한 맞춤형 조성의 Chemical제품을 개발합니다.

  • 제조 공정 관리

    고객사의 눈높이에 부합하는 고순도 원료 사용 및 filtration system 구축을 통해
    성능 및 품질 Needs에 부합하는 Wet chemical 제품을 생산 공급합니다.

  • 고객사 라인 모사

    고객사와 동일한 성능 수준의 Spin etcher를 보유하여
    신뢰성 있는 Demo Test Data를 바탕으로 한 제품 제안이 가능합니다.

KPX일렉트로켐 Chemical 제품 Line-up

제품군 성능 비고
Stripper Posi. < 50㎛ thick PR stripper, Cu loss <0.5Å/min DMSO, NMP free
Nega. < 80㎛ thick PR stripper, Cu loss <15Å/min DMSO base
Nega.+Posi. < 350㎛ thick PR stripper, Cu loss <5Å/min DMSO base
Etchant Cu Cu etchant (UBM Cu) Acid base
Ti Ti etchant (Bump Ti 1액형, 2액형) Alkali base
TiW RDL 전용 TiW etchant Alkali base
PCC
(Post CMP Cleaner)
Cu 낮은 Cu 표면 roughness / TEOS, Low-K 호환 TMAH base / TMAH free
W 선택적 Alumina 용해 성능 / Cu, W, Ti, Co 호환 TMAH free
PERR
(Post Etch Residue Remover)
Cu Organic residue remove / TiN, AlN etch Alkali base
Organic residue remove / oxide etch Fluoride base